kim loại siliconđược sản xuất thông qua quá trình khử cacbon trong lò hồ quang chìm, trong đó thạch anh-có độ tinh khiết cao (SiO₂) phản ứng với các chất khử gốc cacbon-như than cốc luyện kim ở nhiệt độ cực cao khoảng 1900–2000 độ . Nhiệt độ cực cao này rất cần thiết để phá vỡ các liên kết hóa học mạnh trong silica và loại bỏ oxy dưới dạng khí CO, tạo ra silicon kim loại có độ tinh khiết lớn hơn hoặc bằng 98%. Nhiệt độ thấp hơn sẽ không đạt được mức giảm hiệu quả hoặc mức độ tinh khiết cần thiết cho các ứng dụng hạ nguồn trong hợp kim nhôm, silicon, polysilicon năng lượng mặt trời và chất bán dẫn-khiến các lò hồ quang điện sử dụng nhiều năng lượng (thường nằm gần thủy điện giá rẻ) trở thành yêu cầu cốt lõi của ngành.
Để biết thêm thông số kỹ thuật chi tiết, so sánh cấp độ hoặc thông tin chi tiết về thị trường hiện tại về kim loại silicon, vui lòng truy cập trang tài nguyên chuyên dụng của chúng tôi tạihttps://www.cnxhyy.com/
